8月5日，全國半導體器件產業發展、創新產品和新技術研討會，第七屆中國微納電子技術交流與學術研討會在太原召開,該會議由中國半導體行業協會主辦，來自全國各高校、科研院所的專家學者和相關企業代表近300人參加了本次研討會。此次研討會為期兩天，主要涉及方面包括光電技術、硅基技術、微納電子技術、寬禁帶技術和工藝檢測與設備等。

北京東方中科集成科技股份有限公司（以下簡稱“東方集成”）作為企業代表參加了本次會議，在會議上與各專家學者進行了廣泛的交流，包括：

1.   橢偏儀在薄膜測量領域的新應用，其中涉及通過橢偏儀進行3D輪廓特征尺寸的表征及穆勒矩陣測量的技術問題；

2.   等離子刻蝕、沉積在不同半導體材料中的應用，特別是寬禁帶半導體材料，如GaN、SiC等，同時還和專家們特別討論了等離子刻蝕在電力電子器件、微機械器件中的特殊工藝情況；

3.   其他主要半導體工藝，如蒸發、濺射、離子注入等，并交流了東方集成在以上半導體工藝上可提供的技術支持。

總之，通過本次研討會的交流，東方集成與半導體產業方面的科研專家增進了相互了解，更清楚用戶的需求，東方集成將一如既往地向全國用戶提供專業優質的儀器設備服務。